二手電鏡 S-3400N 日立 電鏡 HITACHI SEM

規(guī)格參數(shù)： 

1. 儀器的基本信息： 
   

儀器名稱：掃描電子顯微鏡 

英文名：Scanning Electron Microscope 

型號(hào)：Hitachi S-3400N 

產(chǎn)地：日本 

購(gòu)買(mǎi)時(shí)間：2013年 2月

2.儀器的用途： Hitachi S—3400N型掃描電子顯微鏡，主要用于對(duì)材料的微觀形貌、組織和成分進(jìn)行有效分析。

 3.儀器的性能指標(biāo)： 

1）分辨率 二次電子探頭：≤3.0 nm（在30kV，高真空模式)，≤10 nm（在3 kV，高真空模式)；被散射探頭：≤4.0 nm（在30kV，低真空模式)。

 2）加速電壓：0.3kV～30kV連續(xù)可調(diào)。 

3）放大倍數(shù)：最低倍率5倍，最高倍率300,000倍。 

4）真空系統(tǒng) ①具有低真空功能，高低真空切換，不需要安裝壓差光闌； ②真空度：高真空不低于0.1 mPa；低真空（壓力范圍）：10 Pa—270 Pa； 

5）電子光學(xué)系統(tǒng) ①電子槍：鎢燈絲，具有自動(dòng)偏壓+4級(jí)偏壓功能； ②聚光鏡光闌完全安裝在長(zhǎng)內(nèi)襯管內(nèi)，可自行更換聚光鏡光闌。

 6）樣品室和樣品臺(tái) ①樣品臺(tái)尺寸：裝載直徑≥200 mm樣品； ②樣品臺(tái)（五軸樣品臺(tái)，2軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)功能）； ③ 行程：X=100 mm；Y=50 mm；Z=50 mm；R=3600；T=-20～+900；

 7）探測(cè)器及成像系統(tǒng) ① 二次電子探測(cè)器：二次電子像；高靈敏5分割背散射電子探測(cè)器：成分像、形貌像和三維像； ②成像模式：同時(shí)得到二次電子像，背散射電子像，兩種圖像混合像；

 4.結(jié)果展示：